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鞠焕鑫博士来我院学术交流

日期:2020-12-14          来源:           作者:          关注:

2020127日,PHI (China)Limited高德英特(北京)科技有限公司应用科学家鞠焕鑫博士应邀来到我院进行学术交流,为我院师生作学术报告。报告在高分子科学与工程学院207会议室举行,任世杰老师主持。

鞠焕鑫博士做了题为“X射线光电子能谱的技术特点及其应用”的专题报告。讲述X射线光电子能谱的基本原理及其相关技术特点,重点分享对于具有微米尺度结构特征的材料/器件进行XPS测试,如何实现对微区结构进行精准的XPS定位测试,避免环境对测试结果的影响;对高分子样品/器件进行XPS深度分析来研究不同深度下的元素组分和化学态信息时,如何减弱刻蚀离子束对样品化学结构的破坏作用;对导电性较差的样品进行XPS测试时,如果消除荷电效应和进行数据处理等。

报告过程中鞠焕鑫博士详细介绍了X射线光电子能谱的技术特点及其应用,报告后耐心回答了在座老师和同学们提出的疑问,解答了同学们在实验过程中遇到的各种难题,让在座的老师和同学受益匪浅。

 

鞠焕鑫博士简介:

鞠焕鑫博士2009-2014年于中国科学技术大学获得学士和博士学位,毕业后在国家同步辐射实验室从事博士后研究。2012-2013年在美国华盛顿大学(西雅图)化学系David Ginger教授课题组联合培养。20166-201810月,中国科学技术大学国家同步辐射实验室副研究员,负责中国科学技术大学国家同步辐射实验室催化与表面科学实验站的运行管理,主要从事软X射线谱学方法学研究以及能源材料/器件界面电子性质研究。在学术研究方面与用户合作在NaturePhotonics, NatureChemistry,Nature Energy,JAmChemSoc,AngewChemIntEd,AdvMater,Adv Funct Mater等期刊发表学术论文80余篇;主持、参与国家自然科学基金委青年科学基金、大科学装置联合基金培育项目和重点项目、国家重点研发计划等多个国家级科研项目。201811月,加入PHI (China)Limited高德英特(北京)科技有限公司,担任应用专家,负责PHICHINA南京表面分析实验室的创建以及运行管理。

撰稿:徐云祥
核发:杨伟
编辑:余蓉

 

 

 

 

 

 

 

 

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